ADVANCED COATING EQUIPMENT - MODULARE PROZESSSYSTEME - VON ARDENNE
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EQUIPMENT
MODULARE ROZESSSYSTEME
ADVANCED COATING EQUIPMENT
MODULARE PROZESSSYSTEME
ANWENDUNGEN UNSERE STÄRKEN
Ihre Anforderungen hinsichtlich Technologie und Produktivität angepasst werden können. Die auch für Forschung und Entwicklung, machen VON ARDENNE zu einem der führenden Anbieter von
MPS - Modulare Prozess Systeme - sind perfekt für den Einsatz in Forschung und Entwicklung Anlagen und Technologien in der PVD-Dünnschicht- und der Vakuumprozesstechnik. Dank dieser
als auch für die Serienfertigung geeignet. Auch wenn die Anwendungen von Kunde zu Kunde Expertise haben wir bereits mehr als 500 Vakuum-Beschichtungssysteme an Kunden in der ganzen
häufig variieren, hat sich VON ARDENNE bei individuellen Lösungen auch für anspruchsvollste 60 Jahre Erfahrung mit Elektronenstrahlverfahren Welt geliefert. Wir sind in der Lage, Ihre Anforderungen an Produkteigenschaften in effiziente
VON ARDENNE ist Ihr Partner der Wahl, wenn Sie
und 45 Jahre Kompetenz in der Magnetrontech- und wettbewerbsfähige Beschichtungslösungen zu überführen. Sie basieren auf verschiedenen
nach modularen Anlagen suchen, die einfach auf Anforderungen bewährt.
nologie, sowohl für die industrielle Produktion als Konfigurationen unserer modularen Batch-, Cluster-, Inline- oder Drumcoater-Systemplattformen.
MEMS UND MOEMS HAUSEIGENES TECHNOLOGY &
Mikroelektromechanische Systeme (MEMS) sind mikroskopische mechanische oder elektromechanische APPLICATION CENTER
Strukturen und Bauelemente. Unseren Kunden, die in diesem Technologiebereich aktiv sind, bieten wir Anlagen
ĵ Musterbeschichtungen für Anwendungen unserer Kunden
zur Fertigung beispielsweise von Mikrospiegelarrays für industrielle Anwendungen. Darüber hinaus zur
Herstellung mikrooptoelektromechanischer Systeme – MOEMS. ĵ Entwicklung kundenspezifischer Schichtstapel
©Fraunhofer IPMS ĵ Produkt- und Prozessüberprüfung sowie -optimierung
ĵ Tests von neuen Technologien und Komponenten
SENSOREN
Für die Sensorherstellung können leitende und aktive Schichten ebenso wie stark abschirmende
Barriereschichten mit unseren Systemen abgeschieden werden. ENGE PARTNERSCHAFT
Durch die Verwendung von Masken im Abscheidungsschritt ist auch eine Strukturierung der Schicht möglich.
VON ARDENNE unterhält ein enges Netzwerk mit Partnern für eine noch tiefere
Zu den Anwendungen zählen Sensorsonden für Position (GMR), Druck, Temperatur, Widerstand usw.
F & E-Arbeit und die Identifikation von Zukunftstechnologien. Es umfasst:
ĵ Fraunhofer Institute wie IPMS, FEP und ISE
OLED ĵ Institute der Helmholtz-Gemeinschaft (Jülich, Berlin)
VON ARDENNE bietet verschiedene Systeme für die Klein- und Großserienfertigung mit Schwerpunkt auf der ĵ Universitäten (Kiel, Dresden, Sheffield)
Abscheidung der aktiven Schicht mit eigenen organischen Verdampferquellen. Außerdem stellen wir Systeme
ĵ Unternehmen wie die FAP GmbH, scia systems GmbH
für die Metallisierung in Kombination mit einem Maskenstrukturierungsverfahren sowie die Verkapselung bereit.
Die wichtigsten Anwendungen für OLEDs sind kleine oder einfache Displays und Beleuchtung.
PROFESSIONELLE UNTERSTÜTZUNG DURCH
SIMULATION
PHOTOVOLTAIK / ARCHITEKTURGLAS
Wir bieten professionelle Simulationstechnologie, um beste Prozessqualität
Für die Photovoltaik- und Architekturglasindustrie bietet VON ARDENNE MPS-Ausrüstungen und Komponenten in Bezug auf Plasma, Heizung und Kühlung zu gewährleisten. Darüber hinaus
für die Forschung und Entwicklung sowie für die Optimierung bestehender Schichtstapel. helfen unsere Simulationswerkzeuge, Schichteigenschaften zu entwickeln, zu
demonstrieren und zu verbessern sowie die Prozesse und die Leistungsfähigkeit
Der Einsatz unserer Modularen Prozess Systeme im F&E-Stadium erleichtert den Umstieg auf größere VON
unserer Systeme zu definieren oder zu optimieren.
ARDENNE-Produktionsanlagen für die Großserienfertigung.
PRÄZISIONSOPTIK WELTWEITE PROJEKTERFAHRUNG
VON ARDENNE bietet Lösungen für die Abscheidung von Wechselschichtsystemen mit hoher Homogenität VON ARDENNE-Anlagen sind in über 50 Ländern im Einsatz. Wir haben eine
für wellenlängenabhängige Funktionen bei Filtern, Strahlteilen, Reflektoren und Funktionsschichten für Anti- installierte Basis von hunderten von Beschichtungssystemen, angefangen von
Scratch-Anwendungen. kleinen Einkammersystemen bis hin zu Anlagen für großflächige Beschichtungs-
aufgaben für unterschiedlichste Anwendungen und Märkte.
MEDIZINISCHE ANWENDUNGEN
Wir bieten Systeme zur Metallisierungs- oder Barrierebeschichtung auch auf dreidimensionalen Objekten an.
Diese Systeme verfügen über einen speziellen Substrathalter und eignen sich für medizinische Anwendungen UMFANGREICHES SERVICEPORTFOLIO
wie elektrische Kontakte von Herzkathetern oder die Verkapselung von Implantaten.
ĵ VON ARDENNE-Servicezentren auf der ganzen Welt
ĵ Vor-Ort-Service (auf Anfrage)
ĵ Fernzugriff durch unsere Technologieabteilung (falls erforderlich)
ZUKUNFTSTECHNOLOGIEN
ĵ Angebot regelmäßiger technischer und technologischer Schulungen
Unsere Modularen Prozess Systeme dienen der Entwicklung und Fertigung von Zukunftstechnologien
ĵ Ersatz- und Verschleißteillager in Kundennähe
wie Brennstoffzellen, Dünnschicht-Batterien und thermoelektrischen Generatoren. Sie können auch für
Forschungsaufgaben und die Entwicklung wie aktuell die Low-E Windschutzscheiben oder Head-Up-Displays im ĵ Erhöhung der Langlebigkeit von Verschleißteilen
Automotivebereich eingesetzt werden.
UPGRADES & RETROFITS
Wenn Ihr Geschäft wächst, wächst Ihr VON ARDENNE-System dank seines
FORSCHUNG & ENTWICKLUNG modularen Aufbaus und der von uns angebotenen Upgrades mit. Wenn Sie sich
Basierend auf unserer langjährigen Erfahrung als Zulieferer von Forschungseinrichtungen im In- und entscheiden, Ihre Anwendungen zu ändern, unterstützen wir Sie mit den notwen-
Ausland, bieten wir Systeme für alle Aufgaben der Grundlagenforschung, die anspruchsvolle Vakuum- digen Technologie-Upgrades. Darüber hinaus rüsten wir Ihre Anlagen mit neuen
beschichtungsanlagen erfordern. Komponenten nach, unabhängig davon, ob sie aus dem Hause VON ARDENNE
oder von Drittanbietern sind.
HAUPTMERKMALE Basierend auf der Erfahrung von mehr als 40 Jahren im Magnetron-Sputtern und über 50
Jahren in der Verdampfung Modularen Prozess Systeme über ein breites Leistungsspektrum.
Alle wichtigen Vakuum-Dünnschichttechnologien können integriert werden. Darüber
SCHLÜSSELKOMPONENTEN technologischen Fachwissen und unseren gesammelten Erfahrungen
sowie selbst entwickelten und gefertigten Schlüsselkomponenten.
Abhängig von der erforderlichen Anlagenkonfiguration kann ein
hinaus stehen verschiedene Methoden zur Vor- und Nachbehandlung zur Verfügung. Eine VON ARDENNE-System eine oder mehrere der aufgeführten
Besonderheit sind die zahlreichen Lösungen zur Überwachung, Handhabung und Steuerung Der Erfolg unserer Modularen Prozess Systeme basiert auf Komponenten enthalten. Die Systeme können nach ihrer Installation auch
der Systeme. Im Folgenden sehen Sie detailliert alle wesentlichen Merkmale unserer Systeme. einem hochflexiblen und breiten Konfigurationsumfang, unserem mit diesen Komponenten auf- und nachgerüstet werden.
VOR-/NACHBEHANDLUNG HANDLING
Heizen / Tempern Einzelsubstrat
Ausgasung Magazin
Ätzen (Elektronenstrahl, Glimmentladung) Substratwendestation
Aligner Carrier-Rückführsystem
Maskierung
Roboter Be- und Entladung
Inverser Sputterätzer Glimmentladeeinheit LION Ionenquelle
Reinraumtauglich
BESCHICHTUNGSPROZESSE
Sputtern, planar Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD)
Sputtern, konfokal Atomlagenabscheidung (ALD)
Sputtern mit rotierendem Magnetfeld Hot wire
Verdampung (thermisch, Elektronenstrahl) Andere Prozesstechnologien auf Anfrage
Rundmagnetron Rechteckiges Magnetron Rohrmagnetron
ÜBERWACHUNG STEUERUNG
VAprocos 2 Manuell, semi- oder vollautomatisch
Plasma Emissions Monitor (PEM) SECS / GEM Schnittstelle
Pyrometer Data Logging
Messung der Abscheiderate Benutzerverwaltung
Temperaturaufzeichnung
In-situ-Messung, optische Schichteigenschaften
Runde PECVD-Quelle VAprocos 2 Prozesssteuerungssystem Wicon Steuersoftware
CLUSTER-SYSTEME Unsere Cluster-Systeme basieren auf einer Plattform mit vielen modularen Einheiten.
Daher kann jede Anlage entsprechend den individuellen Anforderungen unserer Kunden REFERENZSYSTEME
konfiguriert werden. Darüber hinaus können spezielle Funktionalitäten integriert werden,
MODULAR, FLEXIBEL & KOSTENEFFIZIENT um die technologischen Wünsche unserer Kunden zu erfüllen. Dank dieser Flexibilität
helfen VON ARDENNE Cluster-Systeme unseren Kunden, ihre Betriebskosten zu senken.
LADEKAMMERN LS500 DER KOMPAKTE ALLROUNDER
Dieses sehr kompakte System kann für die Abscheidung von Schichtsystemen in Forschung
Einzelsubstratmodul und Entwicklung sowie in der Kleinserienfertigung eingesetzt werden.
Bis zu vier Magnetrons ermöglichen einen hochflexiblen Betrieb zur Abscheidung unterschied-
VORBEHANDLUNGS- NACHBEHANDLUNGS- licher Schichtsysteme. Zudem eignet sich die Anlage zum separaten oder Ko-Sputtern. Eine
KAMMERN KAMMERN Kombination mit weiteren Optionen wie BIAS oder Überwachungssystemen ist möglich, so dass
es sich um einen echten Alleskönner handelt.
Die Handhabung der Substrate erfolgt wafer- oder carrierbasiert.
H2 Passivierungs- oder
Magazinmodul Blitzmodul Ladekammer ĵ Einzelsubstrate oder Magazine
Reinigungs- oder Ätzmodul Prozesskammer ĵ Inverser Sputterätzer
Metalle, Dielektrika, ĵ 4 fokal angeordnete Magnetrons
Legierungen,
ĵ DC, DC gepulst, RF-Prozesse
Barriereschichten für
medizintechnische ĵ Höhenverstellbare und rotierende Substratplattform,
Verkapselungen / geeignet für RF BIAS
Implantate ĵ Integriertes Heiz- oder Kühlsystem
ĵ Plasma Emissions Monitor (PEM), Pyrometer
TRANSFERKAMMERN
CS500 HIPIMS CLUSTER-SYSTEM
6-fach
Das Cluster-System nutzt eine der modernsten Beschichtungstechnologien, das sogenannte
Hochleistungs-Impuls-Magnetron-Sputtern (HIPIMS), das in der Lage ist, dünne Schichten mit
einer extrem hohen Dichte abzuscheiden. Es eignet sich besonders für Anwendungen, die ein
hohes Maß an Präzision erfordern, wie zum Beispiel Beschichtungen auf Glas, um Spiegelungen
8-fach zu verhindern oder um reaktionsfähigere Smartphone-Bildschirme (z.B. Kratzschutz) herzustellen.
4-fach
Ladekammer ĵ Magazinschleuse für Carrier
PECVD ICP Modul
6-fach Transferkammer ĵ Vakuumroboter
Vorbehandlungskammer ĵ Inverser Sputterätzer
2 Prozesskammern ĵ Jeweils bis zu 4 fokal angeordnete Magentrons
Hartstoffschichten und ĵ Unbalanciertes Hochleistungs-Impulsmagnetronsput-
besonders dichte Schichten tern (HIPIMS)
Elektronenstrahl- ĵ Dreh- und höhenverstellbare Carrier-Plattform
verdampfer ĵ Substratheizung (biz zu 900 °C)
Sputtermodul, ĵ Schnelles Gaseinlass- und -verteilsystem
4-fach, parallel ĵ Überwachungssysteme (z.B. Pyrometer)
PROZESS-
KAMMERN CS400 MEMS CLUSTER-SYSTEM
Der CS400 eignet sich besonders für die Abscheidung hochreflektierender Schichtsysteme
für MEMS und MOEMS (mikro(opto)elektromechanische Systeme). Diese Schichtsysteme sind
(R)IBE/S Verdampfungsmodul beispielsweise Mikrospiegelarrays, die für industrielle Anwendungen zugeschnitten sind. Dank
eines Aufbaus als Cluster können mehrere aufeinanderfolgende Schichten in situ abgeschieden
werden, ohne das Substrat aus dem Vakuum zu nehmen.
Das System ermöglicht Beschichtungen mit außerordentlich hoher Präzision hinsichtlich der
Sputtermodul,
einfach, parallel Schichtqualität. Es ermöglicht auch einen langzeitstabilen Prozess und eine schnelle Sputter-
Druckregelung.
2 Ladekammern ĵ Ladeschleuse für Wafer-Magazine
8-fach Transferkammer ĵ Vakuumroboter, integrierte Ausrichtungs- und Kühlein-
heit
Vorreinigungskammer
5 Prozesskammern ĵ 300 mm Hochleistungsmagnetrons mit höchster Ho-
PECVD CCP Modul Metallisierung, hoch mogenität und Targetausnutzung
reflektierend, Antireflex (AR) ĵ DC, DC gepulst and RF-Prozesse
und Deckschichten
Sputtermodul, 4-fach, konfokal Hot-wire-Modul ĵ Gaseinlass- und -verteilsystem
INLINE-SYSTEME Für die Verarbeitung größerer Substrate mit höherer Produktivität verfügt VON ARDENNE über
mehrere Inline-Beschichtungsplattformen. Es sind Inline-Systeme sowohl in vertikaler als auch in REFERENZSYSTEME
horizontaler Ausführung geliefert und installiert worden. Sie werden von den Kunden sowohl für
HORIZONTAL ODER VERTIKAL die Produktionsaufgaben als auch im Pilotmaßstab für die Schichtoptimierung eingesetzt, die VON
HOCHPRODUKTIVE ANLAGEN ARDENNE-Großflächenbeschichtungsanlagen betreiben. Resultierende Prozessparameter können
einfach übertragen werden.
VISS SINGLE-END SPUTTER-SYSTEM
Dieses System eignet sich für die großflächige Abscheidung von optischen Einzel-,
Mehrfachmetall- oder Metalloxidschichten. Dank seines modularen Aufbaus kann es mit
einer Vielzahl von Funktionen ausgestattet werden. Die Substrate werden durch ein System
transportiert, das vertikal um -7º gekippt ist.
Diese Anordnung verringert die Verunreinigung mit Partikeln und ermöglicht, dass die
Substrate ohne Berühren ihrer Vorderseite beladen werden können.
Be- und Entladestation ĵ Roboterbeladung für einen Carrier
Ein-/Ausgabeschleusenkammer ĵ Vakuumbypass für schnelle Evakuierung
Ladestation [unter Atmosphäre] Eingabeschleusenkammer Vorbehandlungskammer
Vorbehandlungskammer ĵ Inverser Sputterätzer
Die Ladestation dient der manuellen Beladung Die Eingabeschleusenkammer ermöglicht ein Die Vorbehandlungskammer kann mit einer Prozesskammer ĵ 4 planare Magnetrons
des Systems mit einem bereits bestücktem Überführen des Carriers in die Prozesskammer Glimmentladevorrichtung, einem inversen Metalle und Dielektrika für optische ĵ DC, RF Prozesse
Carrier oder der Bestückung des Carriers. ohne diese zu entlüften. Optional kann sie Sputterätzer, einer LION-Ionenquelle oder einer Anwendungen
ĵ Gaseinlasssystem
Dies kann entweder manuell oder mit Hilfe mit einem Heizmodul und einer Vakuum- Hohlkathode, sowie einer Heizung ausgestattet
eines Roboters erfolgen. Alternativ kann Umwegleitung (Bypass) ausgestattet werden, werden.
eine Magazinladestation für mehrere Carrier um die Pumpzeit zu reduzieren. Alternativ kann
VISS CONTINUOUS SPUTTER-SYSTEM
verwendet werden. eine kombinierte Vor-/ Hochvakuum-Schleuse
mit integrierter Vorbehandlung verwendet Dieses System ist als Durchlaufanlage für die Schichtentwicklung unter produktions-nahen
werden. Bedingungen konzipiert. Es kann aber auch als Produktions-anlage für kalte und warme
reaktive und nicht-reaktive Abscheideprozesse eingesetzt werden.
2 Ladekammern ĵ Für einen Carrier
2 Schleusenkammern ĵ Integriertes Heizmodul
Vorbehandlungskammer ĵ LION Ionenätzmodul
ĵ Elektronenstrahl-Hohlkathode
ĵ Heizmodul
Prozesskammer ĵ 8 Magnetrons, planar oder rotierend
Al, CZT, MoOxNy, ZnTe - ĵ DC, DC gepulst, RF-Prozesse
Halbleitermaterialien, Metalle -
Beschichtungskammern ĵ Heizmodule
Kontaktmaterialien
ĵ Gaseinlass- und -verteilsystem
Die Beschichtungskammern sind modular hinaus kann eine thermische und eine Sputterquellen, Doppelanordnungen von
ĵ Hochpräzise Termperaturführung
aufgebaut und bestehen je nach Elektronenstrahlverdampfung in unseren planaren Magnetrons oder Rohr- Magnetron-
Kundenwunsch aus einer variablen Anzahl horizontal konfigurierten Systemen integriert Sputterquellen zum Einsatz. Zusätzlich können ĵ PEM für reaktive Prozesse
verschiedener Prozessstationen. Daher werden. Die Prozesskammern können für Heizer und Kühlfallen integriert werden und ĵ Kühlfalle
können die Module entsprechend reaktive, teilreaktive und nicht reaktive AC-, Überwachungs- und Steuerungssysteme zur
in Reihe angeordnet werden. Die DC- oder DC gepulste Abscheideprozesse Regelung des Prozesses oder des Verhaltens
verfügbaren Beschichtungsverfahren sind genutzt werden. Dafür kommen entweder abgeschiedener Schichten. HISS HORIZONTALES OLED-SYSTEM
Magnetron-Sputtern und PECVD. Darüber VON ARDENNE-Planar-Einzelmagnetron-
Dieses System ist eine Produktionsanlage zur Herstellung von OLED-Displays (organische
Die Systeme sind modular aufgebaut und Leuchtdioden). Ein hervorstechendes Merkmal dieses Systems ist die strukturierte
bestehen aus eigenständigen Einheiten mit Abscheidung durch Verwendung verschiedener Masken. Diese Masken werden im
Prozesskomponenten, die auf Flanschen Vakuum ausgetauscht. Das System verwendet VON ARDENNEs organische Linear-
befestigt sind. Dies erlaubt eine Vielzahl Verdampfungsquellen mit inerter Materialbefüllung. Es wird vollautomatisch be- und
kundenspezifischer Konfigurationsmöglich- entladen und verfügt über ein Carrier-Rückführsystem für sehr kurze Taktzeiten.
keiten. Der Beschichtungsprozess kann mit 2 Be- und Entladestationen ĵ Roboterbeladung
unbewegten Substraten (z.B. PECVD- oder
ĵ Positionierungssystem für die Masken
Verdampfung) oder oszillierenden Substraten
mit kontinuierlich durchfahrenden Carriern 2 Ein- und Ausgabeschleusen- ĵ Integrierte Ausrichtungs- und Kühleinheit
erfolgen. Die Beschichtungszyklen können in kammern
Ausgabeschleusenkammer Entladestation [unter Atmosphäre] Abhängigkeit des Prozesses und der gewählten 5 Pufferkammern ĵ Garantieren höchste Produktiviutät
Ausrüstung stark variieren. Alle Module sind
Die Ausgabeschleusenkammer ermöglicht das Die Entladestation dient manueller oder mit ei- 2 Prozesskammern ĵ Verdamperquellen für die Abscheidung
für den 24/7-Betrieb geeignet. Um höchste
Entladen des Carriers, ohne die nem Roboter automatisierter Entladung des Sys- OLED Materialien, Kontaktschichten organischer und metallischer Materialien
Produktivität zu erreichen, bieten die Systeme
Prozesskammern des Systems zu entlüften. tems. Alternativ kann eine Magazinentladestation eine automatische Be- und Entladung der ĵ Ko-Verdampfung
Optional kann sie mit einem Kühlmodul für mehrere Carrier verwendet werden, oder die Substrate, Carrier-Rückführsysteme sowie ĵ Carrier- und Substratzentrierung
ausgerüstet werden. Station kann mit einem Carrier-Rückführsystem SECS / GEM Datenschnittstellen für die ĵ Überwachung der Quartzrate, Temperatur,
kombiniert werden. Automatisierung. Position
Carrier-Rückführsystem ĵ In inerter Atmosphäre
DRUM COATING SYSTEME Trommelbeschichtungssysteme haben eine Reihe von Vorteilen: Sie bieten eine hohe
Produktivität bei einem kompakten Aufbau und günstigen Investitionskosten. Diese REFERENZSYSTEME
leistungsfähigen Systeme sind speziell für die Abscheidung von Wechselschichtlagen
KOMPAKT, KOSTENGÜNSTIG & PRODUKTIV geeignet. In Kombination mit Heiz- und Kühlfunktionen sowie einer Inline-
Abscheideüberwachung können viele Anwendungsbereiche abgedeckt werden.
Wir haben im Folgenden zwei installierte Versionen für Sie hervorgehoben.
3 BS1200 SINGLE DRUM COATING SYSTEM
Dieses System ist als Einkammersystem für die Verarbeitung von Substraten in den
Maßen 200 mm x 600 mm oder 8-Zoll mittels Magnetron-Sputtern in DC-Prozessen
ausgelegt. Die Substrate sind in Carriern untergebracht. Die Carrier sind außerhalb
eines zylindrischen Korbes angebracht. Der Korb dreht sich in der Vakuumkammer
um eine vertikale Achse (Drehkorb). Eine große Tür dient dazu, den Carrierer innerhalb
oder außerhalb der Prozesskammer zu be- oder entladen. Die Tür kann vom Reinraum
aus geöffnet werden, während das System selbst in einem grauen Raum installiert ist.
Optional kann eine Be- / Entladestation integriert werden.
Verschlusssysteme vor den Magnetrons ermöglichen ein Vorsputtern und die schnelle
Abschaltung der Materialabscheidung auf die Substrate.
4
Be- und Entladestation ĵ Große Tür zur Be- und Entladung
ĵ Drehbarer Korb
Vorbehandlungskammer ĵ Inverser Sputterätzer
Prozesskammer ĵ 3 Planar- oder Rohrmagnetrons
Ultrakurzwellenspiegel ĵ DC, DC gepulst, RF-Prozesse
ĵ Gaseinlass- und -verteilsystem
ĵ BIAS
1
2
CS1200 MULTI-CHAMBER DRUM COATING SYSTEM
Das CS1200 ist ein 4-Kammer-System und ermöglicht die Verarbeitung
kundenspezifischer Substrate mittels HF-Sputter-Ätzung, HF-Sputtern und unipolarer DC
oder gepulster Beschichtung. Im Prozessbetrieb kann dies mit horizontal gerichtetem
Partikelstrom und vertikal angeordneten Substraten erfolgen. Das System ermöglicht eine
Heißabscheidung bei definierter und sehr gleichmäßiger Temperatur.
Das System wird durch eine Magazinschleusenkammer beladen. Ein Vakuumroboter
transportiert den Carrier automatisch zwischen allen Vakuumkammern des Systems.
UPGRADE FÜR HÖHERE PRODUKTIVITÄT MÖGLICH Eine der Anwendungen für dieser Anlage ist die Herstellung von thermoelektrischen
ĵ Automatische Be- und Entladung Generatoren.
ĵ Optische Überwachung und Steuerung
Be- und Entladestation ĵ Magazinschleusenkammer kombiniert mit Be-/
ĵ Plasma Emissions Monitor (PEM)
Entladetür
Transferkammer
1 PROZESSKAMMER - EDELSTAHLVAKUUMKAMMER 3 HOCHVAKUUMPUMPSYSTEM Pufferkammer ĵ Zur vorübergehenden Lagerung im Vakuum
MIT 5 PROZESS-SEGMENTEN
ĵ Mit Turbopumpen
2 Prozesskammern ĵ Eine Kammer zur Metallisierung, eine für
ĵ Bis zu 5 Planar- oder Rohrmagnetrons
Halbleiter und metallische Halbleitermaterialien und Barriereschichten
ĵ Vorbehandlungsmodul Materialien, Verkapselungen ĵ Simultane Verarbeitung in beiden Prozesskam-
GROSSE TÜR ZUR BE- UND ENTLADUNG für Sensoranwendungen mern möglich
4
ĵ Nutzerfreundliche Bedienung ĵ Vorreinigung mit Ätzvorrichtung
2 DREHENDE TROMMEL MIT MEHREREN FÄCHERN ĵ Bis zu 9 Planarmagnetrons
ĵ Einfache Reinigung
FÜR SUBSTRAT-CARRIER
ĵ DC, DC gepulst, RF-Prozesse
ĵ Carrier-Größe wird durch das Substrat vorgegeben
ĵ Heizsystem
ĵ Frei wählbare Rotationsgeschwindigkeit
ĵ Gaseinlass- und -verteilsystem
ĵ Korb kann entfernt werden
ĵ Plasma Emissions Monitor (PEM)
REFERENCES
PRODUCT PRODUCT
TOPICS INDEX COMPONENTS
www.vonardenne.biz
WHO WE ARE & WHAT WE DO
VON ARDENNE develops and manufactures industrial equipment for vacuum We supply our customers with technologically sophisticated vacuum coating
coatings on materials such as glass, wafers, metal strip and polymer films. These systems, extensive expertise and global service. The key components are developed
coatings give the surfaces new functional properties and can be between one and manufactured by VON ARDENNE itself.
nanometer and a few micrometers thin, depending on the application.
Systems and components made by VON ARDENNE make a valuable contribution to
Our customers use these materials to make high-quality products such as protecting the environment. They are vital for manufacturing products which help to
architectural glass, displays for smartphones and touchscreens, solar modules and use less energy or to generate energy from renewable resources.
heat protection window film for automotive glass.
SALES SERVICE
CONTACTS CONTACTS
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VON ARDENNE GmbH (headquarters) I Am Hahnweg 8 I 01328 DRESDEN I GERMANY
Sales: +49 (0) 351 2637 189 I sales@vonardenne.biz
Service: +49 (0) 351 2637 9400 I support@vonardenne.biz
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VON ARDENNE Malaysia Sdn. Bhd. I +60 4408 0080 I +60 4403 7363 I sales-vama@vonardenne.biz; support-vama@vonardenne.biz
VON ARDENNE Japan Co., Ltd. I Tokyo office I +81 3 6435 1700 I +81 3 6435 1699 I sales-vajp@vonardenne.biz; support-vajp@vonardenne.biz
VON ARDENNE North America, Inc. I Ohio office I +1 419 386 2789 I +1 419 873 6661 I sales-vana@vonardenne.biz; support-vana@vonardenne.biz
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